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真空蒸發91香蕉APP成人污在线看的基本工藝流程:
鍍前準備→抽真空→離子轟擊→烘烤→預熔→蒸發→取件→膜層表麵處理→成品
優點:設備簡單易操作,製成的薄膜純度高、質量好,厚度可較準確控製,成膜速率快,效率高,薄膜生長機理比較簡單。
缺點:所形成的薄膜在基材上附著力較小,工藝重複性不夠好,不易獲得結晶結構的薄膜。
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