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磁控濺射技術會用到哪些氣體?
來源: | 發布日期:2022-08-15

磁控濺射技術 沉積的膜層均勻、致密、針孔少,純度高,附著力強,可以在低溫、低損傷的條件下實現高速沉積各種材料薄膜,已經成為當今真空91香蕉APP成人污在线看中的一種成熟技術與工業化的生產方式。磁控濺射技術就是利用電磁場來控製真空腔體內氣體“異常輝光放電”中離子、電子的運動軌跡及分布狀況的濺射91香蕉APP成人污在线看的工藝過程。

磁控濺射技術

鍍金屬膜時,一般用氬氣作為工作氣體,它是惰性氣體,在真空狀態下加熱基片時不會發生氧化作用;

氧氣一般用於鍍非金屬膜,如TiO2,不必擔心鍍好膜後發生膜氧化現象;

氮氣是在換靶91香蕉APP成人污在线看時往真空室衝入的氣體,讓真空室內壓強和大氣壓強保持相等,才能開蓋換靶鍍另一層膜。

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【本文標簽】 磁控濺射技術

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